记者丨黎雨桐 见习记者林健民
编辑丨陈思颖
10 月 27 日，A 股市场震荡上涨，沪指盘中一度突破 3999 点，再创年内新高。沪深两市成交额 2.36 万亿，较上一个交易日放量 3650 亿。
盘面上，市场热点轮番活跃，存储芯片概念股全天走强，德明利 2 连板创新高，江波龙、香农芯创等多只个股创新高，时空科技 4 连板。算力硬件概念股延续强势，汇绿生态 6 天 4 板创新高，新易盛、中际旭创盘中均创历史新高。核电板块表现活跃，东方钽业 3 天 2 板，安泰科技等多股涨停。下跌方面，风电板块集体走弱，海力风电大跌。板块方面，存储芯片、CPO、可控核聚变等板块涨幅居前，游戏、风电设备等板块跌幅居前。
存储器多股涨停
光刻机、半导体走强
存储器板块爆发，中电港、大为股份等多股涨停。
国金证券指出，AI 应用端效果的不断显现，投资层面，建议重点关注景气度持续向上的存储产业链。
东莞证券指出，本轮海外存储巨头集体涨价，主要驱动力为 AI 应用爆发，导致对 AI 服务器、数据中心用的高性能存储芯片（如 AI 服务器的 DRAM、NAND）需求激增，从而推动整个存储市场的价格上行，建议关注存储模组、利基存储、存储配套设备材料等受益环节。
光刻机、半导体设备概念股走强，多股大涨。
消息面上，我国首个 EUV 光刻胶标准立项。国家标准委网站显示，我国首个 EUV 光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10 月 23 日开始公示，截止时间为 11 月 22 日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。
据悉，该标准的制定不仅能够填补国内在该领域的技术标准空白，更将通过建立统一的测试方法体系，为国内外 EUV 光刻胶的性能评价提供客观标尺。
此外，近日北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然 · 通讯》。
中国银河证券表示，该方案首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，当前光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。银河证券认为，光刻胶作为半导体、印制电路板、平板显示等行业的基础材料，其技术进步可以促进相关产业链的协同发展，上游材料供应商、设备制造商，中游光刻胶生产企业，以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。
光大证券指出，半导体材料板块正处于需求扩张与国产替代的共振阶段。光刻胶等核心材料既受益于晶圆投片量增加，又面临国产化率提升的政策支持。预计 2025 年中国大陆光刻胶市场规模同比增长 6.8% 至 179 亿元。
机构："慢牛"将延续
方正证券首席经济学家燕翔表示，依然坚定看好后续 A 股市场表现。无论从估值还是两融看，当前 A 股风险水平整体在正常合理范围内，而支持 A 股向上的关键逻辑并未变化：一是在新一轮科技革命和产业变革中，中国诞生了一大批具有国际竞争力的优质企业；二是当前处在本轮盈利下行尾声筑底期，后续上市公司盈利有望系统性回升；三是国内利率水平处于历史低位，权益资产性价比突出；四是国家出台一系列重要政策支持资本市场高质量发展。
华西证券研报指出，短期风险偏好有望得到提振，A 股"慢牛"行情仍将延续。结构上，"大科技"仍是中长期主线。本周 A 股上市公司和美股科技巨头财报将密集落地，科技巨头 AI 资本开支指引将成为焦点，全球科技 AI 行情迎来共振窗口期。
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